制药纯水设备的应用领域和使用要求

制药纯水设备采用模块化设计，基于预处理、氧化消毒、多介质过滤、RO反渗透、UV消毒、EDI连续去离子和储存外输等功能单元，将先进的水处理技术、优质工艺和严格的质量控制融入到每个单元。根据用水标准的差异，最终产水设备通过各功能模块的优化组合而成，确保整个系统的高性能和高质量，使产水达到或超过纯化水和注射用水的水质标准。

制药纯水设备的应用领域包括：
1. 电解电容器生产中铝箔和工作件的清洗；
2. 电子管、显像管和阴极射线管生产中的配料用纯水；
3. 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等过程中的纯水需求；
4. 液晶显示器生产中屏面的纯水清洗和纯水配液；
5. 晶体管生产中硅片的清洗。

制药纯水设备装置的要求：
1. 结构设计应简洁、可靠、易于拆装。
2. 执行机构设计应尽量采用标准化、通用化、系统化的零部件，以便于拆卸、更换和清洗。
3. 设备内外壁表面要求光滑、平整、易清洗、易灭菌。零件表面应进行镀铬等表面处理，以防止腐蚀和生锈。设备外部避免使用油漆，以防剥落。
4. 制备超纯水设备应采用低碳不锈钢或其他经过验证不污染水质的材料。制备纯化水的设备应定期清洗，并验证清洗效果。
5. 接触注射用水的材料必须是低碳不锈钢（如316L不锈钢）或其他经过验证不对水质产生污染的材料。制备注射用水的设备应定期清洗，并验证清洗效果。
6. 纯化水储存周期不宜超过24小时。储罐应采用不锈钢材料或无毒、耐腐蚀、不渗出污染离子的其他材料制作。通气口应安装防脱落纤维的疏水性除菌滤器。储罐内壁应光滑，接管和焊缝不应有死角和沙眼。应采用不会形成滞水污染的液面、温度、压力等参数的传感器。储罐需定期清洗、消毒灭菌，并验证清洗、灭菌效果。